Mode Pengukuran
Contact AFM di udara
Contact AFM dalam cairan (opsional)
Semicontact AFM di udara
Semicontact AFM dalam cairan (opsional)
True Non-contact AFM
Dynamic Force Microscopy (DFM, FM-AFM)
Dissipation Force Microscopy
Top Mode
Phase Imaging
Lateral Force Microscopy (LFM)
Force Modulation
Conductive AFM (opsional)
I-Top mode (opsional)
Magnetic Force Microscopy (MFM)
Kelvin Probe (Surface Potential Microscopy)
Single-pass Kelvin Probe
Capacitance Microscopy (SCM)
Electric Force Microscopy (EFM)
Single-pass MFM/EFM (“Plane scan”)
Force curve measurements
Piezo Response Force Microscopy (PFM)
PFM-Top mode
Nanolithography
Nanomanipulation
STM (opsional)
Photocurrent Mapping (opsional)
Volt-ampere characteristic measurements (opsional)
Mode Pengukuran dalam Cairan dengan AFM Head HE001 dan Cell Cair
Contact AFM
Semicontact AFM
TopMode
Phase Imaging
Lateral Force Microscopy (LFM)
Force Modulation
Force curve measurements
Nanolithography
Nanomanipulation
Scanner dan Base
Rentang pemindaian sampel: 100 µm x 100 µm x 20 µm (±10%)
Tipe pemindaian berdasarkan sampel: Non-linearitas XY 0.05%; Non-linearitas Z 0.05%
Noise:
< 0.1 nm RMS di dimensi XY dalam bandwidth 100 Hz dengan sensor kapasitansi aktif
< 0.02 nm RMS di dimensi XY dalam bandwidth 100 Hz dengan sensor kapasitansi non-aktif
< 0.1 nm RMS di dimensi Z dalam bandwidth 1000 Hz dengan sensor kapasitansi aktif
Frekuensi resonansi:
XY: 7 kHz (bebas beban)
Z: 15 kHz (bebas beban)
Base
Posisi sampel manual: Rentang 25x25mm, resolusi posisi 1µm
Posisi kepala pengukuran SPM motorisasi: 1.6x1.6mm, resolusi posisi 1µm
Pendekatan motorisasi: 1.3 mm
Holder sampel untuk slide standar dan kaca penutup
Holder sampel opsional:
Ukuran sampel maksimum: 50.8x50.8 mm, tinggi 5 mm
Kemampuan untuk memilih area pengukuran 25x25mm di kuadran mana pun dari area 50.8x50.8 mm atau di pusat sampel
AFM Head HE001
Panjang gelombang laser: 1300 nm
Tidak ada pengaruh dari laser registrasi pada sampel biologis
Tidak ada pengaruh dari laser registrasi pada pengukuran fotovoltaik
Noise sistem registrasi: < 0.03 nm
Motorisasi penuh: 4 motor stepper untuk penyelarasan otomatis cantilever dan fotodiode
Akses bebas ke probe untuk manipulasi eksternal dan probe tambahan
Akses optik simultan dari atas dan samping: Objektif planapochromat 10x, NA=0.28 dan 20x, NA=0.42
Cell Cair (opsional)
Posisi sampel manual: Rentang 15x15mm, resolusi posisi 1µm
Holder untuk petri dish dia. 35mm
Volume cairan: 1.5-2.5 ml
Aliran cairan untuk pertukaran: Dua tabung
Unit Conductive AFM (opsional)
Rentang arus: 100 fA ÷ 10 µA
3 rentang arus (1nA, 100 nA, dan 10 µA) dapat dipilih melalui perangkat lunak
Rentang tegangan: -10 ÷ +7V
Noise arus RMS: kurang dari 60 fA untuk rentang 1nA
Kompatibilitas dengan Mikroskop Optik Inverted
Tidak ada interferensi dengan pencitraan optik karena laser inframerah
Kemampuan untuk dipasang pada:
Nikon Ti-E, Ti-U, Ti-S, TE2000
Olympus IX-71, IX-81
Teknik kontras fase, DIC, dan fluorescent dengan kondensor optik asli
Dapat di-upgrade ke platform TRIOS untuk operasi spektroskopik dan TERS
Mikroskop Optik untuk Operasi Mandiri (opsional)
Numerical aperture: hingga 0.1
Perbesaran pada monitor 19" dengan CCD 1/3": dari 85x hingga 1050x
Bidang pandang horizontal: dari 4.5 hingga 0.37 mm
Zoom detent manual: 12.5x
Unit stand dan fokus kasar/halus
Kemampuan untuk menggunakan objektif planapochromat: 10x, NA=0.28, 20x, NA=0.42, dan 100x, NA=0.7 (tergantung pada kepala AFM)
Software
Penyelarasan otomatis dari sistem registrasi
Konfigurasi otomatis dan pengaturan preset untuk teknik pengukuran standar
Penyesuaian otomatis frekuensi resonansi cantilever
Kemampuan untuk bekerja dengan kurva gaya
Bahasa makro Lua untuk pemrograman fungsi pengguna, skrip, dan widget
Kemampuan untuk memprogram pengontrol dengan bahasa makro DSP secara real-time tanpa memuat ulang perangkat lunak pengontrol
Kemampuan untuk memproses gambar dalam ruang koordinat termasuk membuat penampang, fitting, dan pemrosesan polinomial hingga derajat 8
Pemrosesan FFT dengan kemampuan untuk memproses gambar dalam ruang frekuensi termasuk filtrasi dan analisis
Nanolithography dan nanomanipulation
Pemrosesan hingga gambar 5000x5000 piksel
‘
‘
‘
Hubungi:
PT Bopana Arga Prima Jaya
Jalan Jupiter VI Perum Bintang Metropol
Blok A7 No.16 Bekasi Utara 17122
Jawa Barat, Indonesia
Telp : 021-22163350
Hp : 08119762505 / 081285345374
Email : boney@bapj.co.id / tesa@bapj.co.id